ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜಿನ ವಿಧಗಳು

ಫ್ಯೂಸ್ಡ್ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆ ಅಥವಾ ಸಿಲಿಕಾ ಗ್ಲಾಸ್ ಎಂದೂ ಕರೆಯಲ್ಪಡುವ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆ ಗಾಜು, ಪ್ರಾಥಮಿಕವಾಗಿ ಸಿಲಿಕಾದಿಂದ (SiO2) ತಯಾರಿಸಿದ ಗಾಜಿನ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ, ಪಾರದರ್ಶಕ ರೂಪವಾಗಿದೆ. ಇದು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ಉಷ್ಣ, ಯಾಂತ್ರಿಕ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ವಿಶಿಷ್ಟ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಇದು ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಅವುಗಳ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಮತ್ತು ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜಿನ ಹಲವಾರು ವಿಧಗಳಿವೆ. ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಕೆಲವು ಸಾಮಾನ್ಯ ವಿಧಗಳು ಸೇರಿವೆ:

ಸ್ಪಷ್ಟವಾದ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು: ಪಾರದರ್ಶಕ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು ಎಂದೂ ಕರೆಯಲ್ಪಡುವ ಈ ರೀತಿಯ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು ವಿದ್ಯುತ್ಕಾಂತೀಯ ವರ್ಣಪಟಲದ ಗೋಚರ, ನೇರಳಾತೀತ (UV), ಮತ್ತು ಅತಿಗೆಂಪು (IR) ಪ್ರದೇಶಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪಾರದರ್ಶಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. ದೃಗ್ವಿಜ್ಞಾನ, ಅರೆವಾಹಕಗಳು, ಬೆಳಕು ಮತ್ತು ವೈದ್ಯಕೀಯ ಸಾಧನಗಳು ಸೇರಿದಂತೆ ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಅನ್ವಯಗಳಲ್ಲಿ ಇದನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಅಪಾರದರ್ಶಕ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು: ಅಪಾರದರ್ಶಕ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆ ಗಾಜಿನನ್ನು ತಯಾರಿಕೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಸಿಲಿಕಾಗೆ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಅಥವಾ ಸಿರಿಯಮ್‌ನಂತಹ ಅಪಾರದರ್ಶಕ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ರೀತಿಯ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು ಪಾರದರ್ಶಕವಾಗಿರುವುದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಷ್ಣ ಅಥವಾ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶಕ್ತಿಯು ಅಗತ್ಯವಿರುವಂತಹ ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಕುಲುಮೆಗಳು ಅಥವಾ ರಾಸಾಯನಿಕ ರಿಯಾಕ್ಟರ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲ್ಪಡುತ್ತದೆ.

ಯುವಿ-ಪ್ರಸರಣ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಗ್ಲಾಸ್: ಯುವಿ-ಟ್ರಾನ್ಸ್ಮಿಟಿಂಗ್ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಗ್ಲಾಸ್ ಅನ್ನು ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿ ವರ್ಣಪಟಲದ ನೇರಳಾತೀತ ಪ್ರದೇಶದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಸರಣವನ್ನು ಹೊಂದಲು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 400 nm ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ. UV ಲ್ಯಾಂಪ್‌ಗಳು, UV ಕ್ಯೂರಿಂಗ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳು ಮತ್ತು UV ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಸ್ಕೋಪಿಯಂತಹ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಇದನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗಾಗಿ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು: ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಗೆ ಅರೆವಾಹಕ ವಸ್ತುಗಳ ಮಾಲಿನ್ಯವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಅಶುದ್ಧತೆಯ ಮಟ್ಟಗಳು ಬೇಕಾಗುತ್ತವೆ. ಈ ರೀತಿಯ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಗ್ಲಾಸ್ ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ವೇಫರ್ ಕ್ಯಾರಿಯರ್‌ಗಳು, ಪ್ರೊಸೆಸ್ ಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಫ್ಯಾಬ್ರಿಕೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಇತರ ಘಟಕಗಳಿಗೆ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಫ್ಯೂಸ್ಡ್ ಸಿಲಿಕಾ: ಫ್ಯೂಸ್ಡ್ ಸಿಲಿಕಾ ಎಂಬುದು ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜಿನ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ರೂಪವಾಗಿದ್ದು, ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಸ್ಫಟಿಕ ಹರಳುಗಳನ್ನು ಕರಗಿಸಿ ನಂತರ ಘನೀಕರಿಸುವ ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಅತ್ಯಂತ ಕಡಿಮೆ ಮಟ್ಟದ ಕಲ್ಮಶಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಇದು ಆಪ್ಟಿಕ್ಸ್, ದೂರಸಂಪರ್ಕ ಮತ್ತು ಲೇಸರ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಂತಹ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆ ಗಾಜು: ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜನ್ನು ಜಲೋಷ್ಣೀಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಅಥವಾ ಜ್ವಾಲೆಯ ಸಮ್ಮಿಳನ ವಿಧಾನದ ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಸಿಲಿಕಾವನ್ನು ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಕರಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಅಥವಾ ಕರಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಂತರ ಸ್ಫಟಿಕ ಗಾಜಿನನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಘನೀಕರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ದೃಗ್ವಿಜ್ಞಾನ, ದೂರಸಂಪರ್ಕ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್ ಸೇರಿದಂತೆ ವಿವಿಧ ಅನ್ವಯಗಳಲ್ಲಿ ಈ ರೀತಿಯ ಕ್ವಾರ್ಟ್ಜ್ ಗ್ಲಾಸ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು.

ವಿಶೇಷವಾದ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು: ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ತರಂಗಾಂತರ ಶ್ರೇಣಿಗಳಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಸರಣವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು, ನಿಯಂತ್ರಿತ ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣಾ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜು ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕಗಳು ಅಥವಾ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನಗಳಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜುಗಳಂತಹ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾದ ವಿವಿಧ ವಿಶೇಷ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆ ಗಾಜಿನ ವಿಧಗಳಿವೆ.

ಇವುಗಳು ಕೆಲವು ಸಾಮಾನ್ಯ ವಿಧದ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಗಳು, ಮತ್ತು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿ ಇತರ ವಿಶೇಷ ಪ್ರಕಾರಗಳು ಇರಬಹುದು. ಪ್ರತಿಯೊಂದು ವಿಧದ ಸ್ಫಟಿಕ ಶಿಲೆಯ ಗಾಜಿನು ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಮತ್ತು ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದು ಅದು ದೃಗ್ವಿಜ್ಞಾನ, ಅರೆವಾಹಕಗಳು, ಏರೋಸ್ಪೇಸ್, ​​ವೈದ್ಯಕೀಯ, ಮತ್ತು ಇತರವುಗಳಂತಹ ವಿವಿಧ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.